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La linea si avvale di un ampio parco strumentale per la deposizione di film sottili costituito da tre diversi sistemi PVD (Physical Vapor Deposition) Magnetron Sputtering: a) un sistema multi-magnetron confocale, b) un sistema multi-magnetron multi-layer, che possono entrambi lavorare sia in modalità DC- sia RF- Magnetron Sputtering (DC-MS e RF-MS), e c) un innovativo sistema High Power Impulse Magnetron Sputtering (HIPIMS).

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